光刻胶和光刻胶辅助设备市场概况、增长、趋势、分析、研究报告（2019-2027 年）

2018年，光刻胶及其辅助材料市场规模为33.9297亿美元，预计到2027年将达到56.1437亿美元；预计2019年至2027年的复合年增长率为5.8%。

光刻胶是一种感光聚合物树脂，主要用于生产印刷电路板、印版、平板液晶显示器、磁记录头和微机电系统 (MEMS)。这些成分作为掩模材料，用于通过蚀刻工艺将图像转移到底层基板上。光刻胶辅助材料包括与光刻胶一起使用的光刻胶剥离剂、抗反射涂层、显影剂和边缘胶去除剂等材料。光刻胶和光刻胶辅助材料用于多层半导体的布线配置，用于制造计算机、笔记本电脑、音乐播放器、手机、服务器和家用电器。电子行业在发达国家和发展中国家都面临着稳步增长。从事该领域的公司利用光刻胶和光刻胶辅助材料来制造各种产品，例如高级电话、计算机系统、电视和家庭娱乐设备，以及用于许多工业和科学应用的电子控制和监控设备。

预计在预测期内，北美的复合年增长率最高，为 6.0%。许多国内外公司在北美地区站稳了脚跟。这些公司正在不断改进整体业务流程，以尽可能地满足客户需求。许多国内外公司在北美地区站稳了脚跟。在北美地区，美国是光刻胶和光刻胶辅助设备的主要市场，其次是加拿大和墨西哥。

COVID-19 疫情于 2019 年 12 月在中国武汉首次爆发，此后迅速蔓延至全球。截至 2020 年 3 月，中国、意大利、伊朗、西班牙、韩国、法国、德国和美国是确诊病例和死亡人数最多的国家。根据世界卫生组织的最新数据，全球确诊病例约 332,930 例，死亡人数共计 14,510 例。由于封锁、旅行禁令和企业倒闭，COVID-19 疫情影响了各国的经济和行业。全球化学和材料行业是受此次疫情影响严重的主要行业之一，供应链中断、技术活动取消、办公室关闭等都对这一疫情造成了影响。例如，中国是全球制造业中心，也是各行业最大的原材料供应国。由于工厂关闭、供应链受阻以及世界经济低迷，COVID-19 导致的整体市场崩溃也影响了光刻胶和光刻胶辅助设备市场的增长。

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光刻胶和光刻胶辅助材料市场: 战略洞察

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市场洞察：各类应用需求不断增长，全球光刻胶和光刻胶辅助材料市场受益

半导体、集成电路、液晶显示器和印刷电路板等各类应用的需求不断增长，推动着全球光刻胶和光刻胶辅助材料市场的发展。光刻胶和光刻胶辅助材料市场的主要增长因素之一是其在平板显示器中的应用。由于这些显示器更薄、更轻、更节能，因此比其他显示器更受欢迎，从而刺激了美国、英国、意大利、中国、印度、俄罗斯、日本、墨西哥和加拿大等发达国家和发展中国家的市场增长。此外，光刻胶还用于多层半导体制造中的布线配置，而多层半导体制造是笔记本电脑、台式电脑、音乐播放器、手机、服务器和家用电器的重要组成部分。光刻胶是一种感光聚合物树脂，主要用于生产印刷电路板、印版、平板液晶显示器、磁记录头和微机电系统 (MEMS)。这些成分作为掩模材料，用于通过蚀刻工艺将图像转移到底层基板上。光刻胶辅助材料包括与光刻胶一起使用的光刻胶剥离剂、抗反射涂层、显影剂和边缘胶去除剂等材料。

应用洞察

根据应用，光刻胶和光刻胶辅助材料市场细分为 ArF 浸没式光刻胶、ArF 干式光刻胶、KrF 光刻胶以及 G 线和 I 线光刻胶。2018 年，ArF 浸没式光刻胶市场占全球光刻胶和光刻胶辅助材料市场的最大份额；然而，预计 G 线和 I 线光刻胶市场在预测期内的复合年增长率将更高。它们被认为是显示临界尺寸 (CD) 均匀性的出色工艺窗口，可使产品具有更好的轮廓形状。这些产品满足了越来越多城市中产阶级消费者的需求，他们愿意为光刻胶和光刻胶辅助设备支付高价。

光刻胶辅助设备类型洞察

根据光刻胶辅助设备类型，光刻胶和光刻胶辅助设备市场细分为抗反射涂层、去除剂、显影剂和其他。抗反射涂层市场占全球光刻胶和光刻胶辅助设备市场的最大份额；然而，预计去除剂市场在预测期内将实现最快的增长率。抗反射涂层属于光刻胶辅助设备的产品等级，有助于控制反射并在光刻过程中吸收光线。它们具有多种优异的特性，例如抑制多重反射和提高对比度。这些涂层直接作用于降低电子行业工艺的运营成本。抗反射涂层可助力从传统的 365 nm（I 线）工艺到尖端的 193 nm 浸没式工艺。这些材料提供动态工艺窗口、广泛的光刻胶兼容性以及所需的图案。

光刻胶及光刻胶辅助材料市场

The Insight Partners 的分析师已详尽阐述了预测期内影响光刻胶及光刻胶辅助设备市场的区域趋势和因素。本节还讨论了北美、欧洲、亚太地区、中东和非洲以及南美和中美洲的光刻胶及光刻胶辅助设备市场的细分市场和地域分布。

光刻胶和光刻胶辅助材料市场报告范围

光刻胶和光刻胶辅助设备市场参与者密度：了解其对业务动态的影响

光刻胶及光刻胶辅助材料市场正在快速增长，这得益于终端用户需求的不断增长，而这些需求的驱动因素包括消费者偏好的不断变化、技术进步以及对产品优势的认知度不断提高。随着需求的增长，企业正在扩展其产品线，不断创新以满足消费者需求，并抓住新兴趋势，从而进一步推动市场增长。

1. ArF 浸没式光刻胶
2. ArF 干式光刻胶
3. KrF 光刻胶
4. G 线和 I 线光刻胶

全球光刻胶和光刻胶辅助设备市场 - 按光刻胶辅助设备类型

1. 防反射涂层
2. 去除剂
3. 显影剂

1. 其他

全球光刻胶和光刻胶辅助设备市场 - 按应用

1. 半导体和集成电路
2. 液晶显示器
3. 印刷电路板

1. 其他

公司简介

1. 默克KGaA
2. 住友化学株式会社
3. 东京应化工业株式会社
4. Micro Resist Technology GmbH
5. 信越化学株式会社
6. ALLRESIST GmbH
7. DJ Microlaminates, Inc.
8. 杜邦 de Nemours, Inc.
9. Fujifilm公司
10. JSR公司

研究经理

哈比·乌默尔

经理,
市场研究与咨询

Habi 是一位经验丰富的市场研究分析师，拥有 8 年专注于化学品和材料领域的经验，并在食品饮料和消费品行业拥有丰富的专业知识。他是维什瓦卡玛理工学院 (VIT) 的化学工程师，在工业和特种化学品、油漆和涂料、纸张和包装、润滑剂以及消费品领域拥有深厚的知识。

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让-埃尔韦·詹恩 主席, 未来分析公司

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安达幸彦 首席执行官, 深蓝有限责任公司

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