Photomask Market Research Scope And Analysis

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フォトマスク市場の範囲、レポート、2031年までの規模

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レポート属性	詳細
2023年の市場規模	49.3億米ドル
2031年までの市場規模	71億4千万米ドル
世界のCAGR（2023年～2031年）	4.7%
履歴データ	2021-2022
予測期間	2024-2031
対象セグメント	タイプ別レチクルマスターマスクマスクをコピーアプリケーション別半導体 IC 離散オプトエレクトロニクス表示デバイスメムスエンドユーザー別半導体・IC フラットパネルディスプレイ
対象地域と国	北米私たちカナダメキシコヨーロッパ英国ドイツフランスロシアイタリアその他のヨーロッパアジア太平洋中国インド日本オーストラリアその他のアジア太平洋地域南米と中央アメリカブラジルアルゼンチン南米および中米のその他の地域中東およびアフリカ南アフリカサウジアラビアアラブ首長国連邦その他の中東およびアフリカ
市場リーダーと主要企業プロフィール	アドバンス・リプロダクションズ・コーポレーションコンピュグラフィックスインターナショナルリミテッド大日本印刷株式会社 HOYA株式会社 LGイノテック株式会社日本フイルコン株式会社フォトロニクス株式会社エスケーエレクトロニクス株式会社台湾マスク株式会社（TMC）凸版印刷株式会社

フォトマスク市場は、消費者の嗜好の変化、技術の進歩、製品の利点に対する認識の高まりなどの要因により、エンドユーザーの需要が高まり、急速に成長しています。需要が高まるにつれて、企業は提供を拡大し、消費者のニーズを満たすために革新し、新たなトレンドを活用し、市場の成長をさらに促進しています。

市場プレーヤー密度とは、特定の市場または業界内で活動している企業または会社の分布を指します。これは、特定の市場スペースに、その規模または総市場価値と比較して、どれだけの競合相手 (市場プレーヤー) が存在するかを示します。

：上記の企業は、特定の順序でランク付けされていません。

フォトマスク市場は、主要な企業出版物、協会データ、データベースなどの一次調査と二次調査後の定性的および定量的データを収集することによって評価されます。以下は、フォトマスク市場の動向と戦略のリストです。

凸版印刷株式会社は2024年2月、IBMと極端紫外線（EUV）リソグラフィーを用いた2ナノメートル（nm）ロジック半導体ノードに関する共同研究開発契約を締結したことを発表しました。この契約には、次世代半導体における高NA EUVフォトマスクの開発能力も含まれています。（出典：凸版印刷株式会社、プレスリリース、2023年）
大日本印刷株式会社は、2023年12月、半導体製造の最先端プロセスである極端紫外線（EUV）リソグラフィーに対応した3ナノメートル（10-9メートル）リソグラフィープロセスに対応可能なフォトマスク製造プロセスの開発に成功しました。（出典：大日本印刷株式会社、プレスリリース、2023年）

「フォトマスク市場規模と予測（2021〜2031年）」レポートでは、以下の分野をカバーする市場の詳細な分析を提供しています。