フォトマスク市場 - 2031 年の成長予測、統計、事実

過去データ : 2021-2022    |    基準年 : 2023    |    予測期間 : 2024-2031

フォトマスク市場の規模と予測(2021-2031年)、世界および地域別のシェア、トレンド、成長機会分析レポートの対象範囲:タイプ(レチクル、マスターマスク、コピーマスク)、アプリケーション(半導体およびIC、ディスクリート、オプトエレクトロニクス、ディスプレイデバイス、MEMS、その他)、エンドユーザー垂直(半導体およびIC、フラットパネルディスプレイ)、および地理

  • レポート日 : Dec 2025
  • レポートコード : TIPTE100000388
  • カテゴリー : エレクトロニクスおよび半導体
  • ステータス : 公開されたデータ
  • 利用可能なレポート形式 : pdf-format excel-format
  • ページ数 : 150
ページ更新済み : May 2024

フォト マスク市場規模は、2023年の49億3,000万米ドルから2031年には71億4,000万米ドルに達すると予測されています。市場は2023年から2031年にかけて4.7%のCAGRを記録すると予想されています。5G技術、人工知能、品質と精度を確保するためのマスク検査技術などの高度なアプリケーション向けの高解像度フォトマスクの需要の増加は、フォトマスク市場の重要なトレンドであり続けると思われます。

フォトマスク市場分析

フォトマスク市場は、電子産業と自動車産業の拡大と、高速コンピューティング メモリおよびプロセッサの需要の高まりにより、急速に成長しています。市場は、高度な半導体デバイスの採用の増加に牽引されて着実に拡大しています。さらに、リソグラフィー プロセスの革新の進展と、技術的に高度な自動車の生産の増加により、市場の成長に有利な機会が生まれています。

フォトマスク市場の概要

フォトマスクは、レジストでコーティングされたクロムのブランク デバイスにパターンを露光または描画して作成される画像転写ツールです。フォトマスクは、不透明な表面層を持つ固体の透明な基板で構成されています。フォトマスクには、複製する必要があるICレイアウトが保持されます。トランジスタが小型化され、より高度になるにつれて、シリコン ウェーハにパターンを正確に転写するためにフォトマスクがますます普及しています。さらに、複雑な集積回路チップを製造するためのフォトマスクの需要が高まっており、市場を牽引しています。

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フォトマスク市場:戦略的洞察

Photomask Market
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フォトマスク市場の推進要因と機会

拡大する電子機器産業と自動車産業が市場を牽引

世界のエレクトロニクス部門は、電子機器に対する消費者の需要の増加、技術の進歩、モノのインターネットやウェアラブル技術の導入により、驚異的な拡大を遂げています。国際貿易局(ITA)は、世界のエレクトロニクス部門は2025年までに5兆米ドルを超えると予想しており、これが半導体メーカーにチャンスをもたらし、予測期間中にフォトマスク市場を牽引すると予測しています。さらに、自動車産業の拡大と、消費者の間で電気自動車や自動運転技術に対する需要の高まりが市場を牽引しています。消費者はコネクテッドカーの採用や通信・安全システムの改善へとシフトしており、それが高度な半導体デバイスの開発を刺激しています。そのため、フォトマスク市場の成長が加速しています

リソグラフィープロセスにおける革新の進展 -フォトマスク市場におけるチャンス

リソグラフィーにおける革新の成長は、この技術によって、性能と効率が向上したコンパクトで複雑な半導体デバイスを製造できるようにするために重要です。極端紫外線(EUV)リソグラフィーは、半導体業界における重要な技術的進歩を表しています。国際半導体技術ロードマップITRS )によると、供給されるEUVツールの数は2022年と比較して2023年には最大30%増加しており、業界がこの最先端のリソグラフィー技術を急速に採用していることを示しています。EUVリソグラフィーは、フィーチャーサイズを小さくし、解像度を高めることを可能にし、チップの性能と費用対効果を向上させます。これらの技術的進歩は、EUVリソグラフィーアプリケーション向けにカスタマイズされたフォトマスクを引き付けており、予測期間中に市場に機会を生み出すと予想されます。

フォトマスク市場レポートのセグメンテーション分析

フォトマスク市場分析の導出に貢献した主要なセグメントは、タイプ、アプリケーション、およびエンドユーザーの垂直です。

  • タイプ別に見ると、フォトマスク市場はレチクル、マスターマスク、コピーマスクに分かれています。マスターマスクセグメントは2023年に大きな市場シェアを占めました。
  • アプリケーションに基づいて、市場は半導体および IC、ディスクリート、オプトエレクトロニクス、ディスプレイデバイス、MEMS、その他に分類されます。半導体および IC セグメントは 2023 年に大きな市場シェアを占めました。
  • エンドユーザー別では、フォトマスク市場は半導体・ICとフラットパネルディスプレイに分類されます。半導体・ICセグメントは2023年に大きな市場シェアを占めました。

フォトマスク市場シェアの地域別分析

フォトマスク市場レポートの地理的範囲は、主に北米、アジア太平洋、ヨーロッパ、中東およびアフリカ、南米/中南米の 5 つの地域に分かれています。

収益面では、中​​国、韓国、台湾に巨大なエレクトロニクス産業が存在するため、アジア太平洋市場が最大のフォトマスク市場シェアを占めています。エレクトロニクス産業の成長により、半導体製造におけるフォトマスクの需要が高まっています。韓国貿易省によると、同国の半導体輸出は2023年第1四半期に2022年の同時期と比較して12%増加しました。電子機器やデバイスの生産におけるメーカー間の半連続の需要の高まりは、この期間中に市場にチャンスを生み出しています。さらに、この地域の技術とインフラ開発への投資は、世界のフォトマスク市場の成長に大きく貢献しています。

 

フォトマスク市場の地域別分析

予測期間を通じてフォトマスク市場に影響を与える地域的な傾向と要因は、Insight Partners のアナリストによって徹底的に説明されています。このセクションでは、北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中東およびアフリカ、南米および中米にわたるフォトマスク市場のセグメントと地理についても説明します。

Photomask Market
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フォトマスク市場レポートの範囲

レポート属性詳細
2023年の市場規模49.3億米ドル
2031年までの市場規模71億4千万米ドル
世界のCAGR(2023年~2031年)4.7%
履歴データ2021-2022
予測期間2024-2031
対象セグメントタイプ別
  • レチクル
  • マスターマスク
  • マスクをコピー
アプリケーション別
  • 半導体
  • IC
  • 離散
  • オプトエレクトロニクス
  • 表示デバイス
  • メムス
エンドユーザー別
  • 半導体・IC
  • フラットパネルディスプレイ
対象地域と国北米
  • 私たち
  • カナダ
  • メキシコ
ヨーロッパ
  • 英国
  • ドイツ
  • フランス
  • ロシア
  • イタリア
  • その他のヨーロッパ
アジア太平洋
  • 中国
  • インド
  • 日本
  • オーストラリア
  • その他のアジア太平洋地域
南米と中央アメリカ
  • ブラジル
  • アルゼンチン
  • 南米および中米のその他の地域
中東およびアフリカ
  • 南アフリカ
  • サウジアラビア
  • アラブ首長国連邦
  • その他の中東およびアフリカ
市場リーダーと主要企業プロフィール
  • アドバンス・リプロダクションズ・コーポレーション
  • コンピュグラフィックスインターナショナルリミテッド
  • 大日本印刷株式会社
  • HOYA株式会社
  • LGイノテック株式会社
  • 日本フイルコン株式会社
  • フォトロニクス株式会社
  • エスケーエレクトロニクス株式会社
  • 台湾マスク株式会社(TMC)
  • 凸版印刷株式会社

 

フォトマスク市場のプレーヤー密度:ビジネスダイナミクスへの影響を理解する

フォトマスク市場は、消費者の嗜好の変化、技術の進歩、製品の利点に対する認識の高まりなどの要因により、エンドユーザーの需要が高まり、急速に成長しています。需要が高まるにつれて、企業は提供を拡大し、消費者のニーズを満たすために革新し、新たなトレンドを活用し、市場の成長をさらに促進しています。

市場プレーヤー密度とは、特定の市場または業界内で活動している企業または会社の分布を指します。これは、特定の市場スペースに、その規模または総市場価値と比較して、どれだけの競合相手 (市場プレーヤー) が存在するかを示します。

フォトマスク市場で事業を展開している主要企業は次のとおりです。

  1. アドバンス・リプロダクションズ・コーポレーション
  2. コンピュグラフィックスインターナショナルリミテッド
  3. 大日本印刷株式会社
  4. HOYA株式会社
  5. LGイノテック株式会社
  6. 日本フイルコン株式会社

免責事項上記の企業は、特定の順序でランク付けされていません。


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フォトマスク市場のニュースと最近の動向

フォトマスク市場は、主要な企業出版物、協会データ、データベースなどの一次調査と二次調査後の定性的および定量的データを収集することによって評価されます。以下は、フォトマスク市場の動向と戦略のリストです。

  • 凸版印刷株式会社は2024年2月、IBMと極端紫外線(EUV)リソグラフィーを用いた2ナノメートル(nm)ロジック半導体ノードに関する共同研究開発契約を締結したことを発表しました。この契約には、次世代半導体における高NA EUVフォトマスクの開発能力も含まれています。(出典:凸版印刷株式会社、プレスリリース、2023年)
  • 大日本印刷株式会社は、2023年12月、半導体製造の最先端プロセスである極端紫外線(EUV)リソグラフィーに対応した3ナノメートル(10-9メートル)リソグラフィープロセスに対応可能なフォトマスク製造プロセスの開発に成功しました。(出典:大日本印刷株式会社、プレスリリース、2023年)

フォトマスク市場レポートの対象範囲と成果物

「フォトマスク市場規模と予測(2021〜2031年)」レポートでは、以下の分野をカバーする市場の詳細な分析を提供しています。

  • 対象範囲に含まれるすべての主要市場セグメントの世界、地域、国レベルでの市場規模と予測
  • 市場の動向(推進要因、制約、主要な機会など)
  • 今後の主な動向
  • 詳細なPEST/ポーターの5つの力とSWOT分析
  • 主要な市場動向、主要プレーヤー、規制、最近の市場動向を網羅した世界および地域の市場分析
  • 市場集中、ヒートマップ分析、主要プレーヤー、最近の動向を網羅した業界の状況と競争分析
  • 詳細な企業プロフィール
ナヴィーン・チッタラギ
バイスプレジデント.,
市場調査とコンサルティング

Naveenは、カスタム、シンジケート、コンサルティングの各プロジェクトにおいて9年以上の実績を持つ、経験豊富な市場調査およびコンサルティングのプロフェッショナルです。現在はアソシエイトバイスプレジデントを務め、プロジェクトバリューチェーン全体にわたるステークホルダー管理を成功させ、100件以上の調査レポートと30件以上のコンサルティング案件を執筆しています。産業および政府機関のプロジェクトに幅広く携わり、クライアントの成功とデータに基づく意思決定に大きく貢献しています。

Naveenは、カルナータカ州VTUで電子通信工学の学位を取得し、マニパル大学でマーケティング&オペレーションズのMBAを取得しています。IEEEの会員として9年間活動し、会議や技術シンポジウムへの参加、セクションレベルおよび地域レベルでのボランティア活動に積極的に取り組んでいます。現職以前は、IndustryARCでアソシエイト戦略コンサルタント、Hewlett Packard(HP Global)で産業用サーバーコンサルタントを務めていました。

  • 過去2年間の分析、基準年、CAGRによる予測(7年間)
  • PEST分析とSWOT分析
  • 市場規模価値/数量 - 世界、地域、国
  • 業界と競争環境
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