预计到 2031 年,光 掩模市场规模将从 2023 年的 49.3 亿美元增至 71.4 亿美元。预计 2023-2031 年市场复合年增长率为 4.7%。5G 技术、人工智能和掩模检测技术等先进应用对高分辨率光掩模的需求不断增长,以确保质量和精度,这可能仍是光掩模市场的一个关键趋势。
光掩模市场分析
由于电子和汽车行业的不断发展以及对快速计算存储器和处理器的需求不断增长,光掩模市场正在快速增长。由于先进半导体器件的日益普及,市场正在稳步扩张。此外,光刻工艺的不断创新和技术先进汽车产量的不断增长为市场增长提供了有利可图的机会。
光掩模市场概况
光掩模是一种图像传输工具,通过在涂有抗蚀剂的铬空白设备上曝光或绘制图案而制成。它们由固体透明基板和不透明表面层组成。光掩模保存需要复制的IC布局。随着晶体管变得越来越小、越来越先进,光掩模越来越受欢迎,可用于将图案准确地转移到硅晶片上。此外,生产复杂集成电路芯片对光掩模的需求不断增长,推动了市场的发展。
定制此报告以满足您的需求
您可以免费定制任何报告,包括本报告的部分内容、国家级分析、Excel 数据包,以及为初创企业和大学提供优惠和折扣
- 获取此报告的关键市场趋势。这个免费样品将包括数据分析,从市场趋势到估计和预测。
光掩模市场驱动因素和机遇
不断扩张的电子和汽车行业正在推动市场发展
由于消费者对电子产品的需求增加、技术进步以及物联网和可穿戴技术的引入,全球电子行业正在经历非凡的扩张。国际贸易管理局 ( ITA ) 预测,到 2025 年,全球电子行业规模预计将超过 5 万亿美元,这为半导体制造商创造了机会,并在预测期内推动了光掩模市场的发展。此外,汽车行业的不断扩张以及消费者对电动汽车和自动驾驶技术日益增长的需求正在推动市场的发展。消费者正在转向采用联网汽车和改进的通信和安全系统,这刺激了先进半导体器件的发展。从而促进了光掩模市场的增长。
光刻工艺的不断创新——光掩模市场的机遇
光刻技术的不断创新对于使该技术能够制造具有更高性能和效率的紧凑而复杂的半导体器件至关重要。极紫外 ( EUV ) 光刻代表了半导体行业的一项重大技术进步。根据国际半导体技术路线图( ITRS ),2023 年供应的EUV工具数量与 2022 年相比增长了 30%,表明该行业正在迅速采用这种尖端的光刻技术。EUV光刻可以实现更小的特征尺寸和更高的分辨率,从而提高芯片性能和成本效益。这些技术进步吸引了为 EUV 光刻应用量身定制的光掩模,预计这将在预测期内为市场创造机会。
光掩模市场报告细分分析
有助于得出光掩模市场分析的关键部分是类型、应用和最终用户垂直。
- 根据类型,光掩模市场分为光罩、主掩模和复制掩模。主掩模部分在 2023 年占据了较大的市场份额。
- 根据应用,市场细分为半导体和 IC、分立器件、光电子器件、显示器件、MEMS 等。半导体和 IC 领域在 2023 年占据了较大的市场份额。
- 就终端用户垂直市场而言,光掩模市场分为半导体和集成电路以及平板显示器。半导体和集成电路领域在 2023 年占据了更大的市场份额。
光掩模市场份额(按地区)分析
光掩模市场报告的地理范围主要分为五个区域:北美、亚太、欧洲、中东和非洲、南美/南美和中美。
就收入而言,由于中国、韩国和台湾拥有庞大的电子产业,亚太市场占据了最大的光掩模市场份额。电子行业的增长增加了半导体制造对光掩模的需求。据韩国贸易部称,该国 2023 年第一季度的半导体出口与 2022 年同期相比增长了 12%。电子设备和设备制造商对半连续生产的需求不断增长,为该时期的市场创造了机会。此外,该地区在技术和基础设施开发方面的投资为全球光掩模市场的增长做出了重大贡献。
光掩模市场区域洞察
Insight Partners 的分析师已详细解释了预测期内影响光掩模市场的区域趋势和因素。本节还讨论了北美、欧洲、亚太地区、中东和非洲以及南美和中美洲的光掩模市场细分和地理位置。
- 获取光掩模市场的区域特定数据
光掩模市场报告范围
| 报告属性 | 细节 |
|---|---|
| 2023 年的市场规模 | 49.3亿美元 |
| 2031 年市场规模 | 71.4亿美元 |
| 全球复合年增长率(2023 - 2031) | 4.7% |
| 史料 | 2021-2022 |
| 预测期 | 2024-2031 |
| 涵盖的领域 | 按类型
|
| 覆盖地区和国家 | 北美
|
| 市场领导者和主要公司简介 |
|
光掩模市场参与者密度:了解其对业务动态的影响
光掩模市场正在快速增长,这得益于终端用户需求的不断增长,而这些需求又源于消费者偏好的不断变化、技术进步以及对产品优势的认识不断提高等因素。随着需求的增加,企业正在扩大其产品范围,进行创新以满足消费者的需求,并利用新兴趋势,从而进一步推动市场增长。
市场参与者密度是指在特定市场或行业内运营的企业或公司的分布情况。它表明在给定市场空间中,相对于其规模或总市场价值,有多少竞争对手(市场参与者)存在。
在光掩模市场运营的主要公司有:
- 先进复制品公司
- 康普国际有限公司
- 大日本印刷株式会社
- 豪雅公司
- LG Innotek 有限公司
- 日本Filcon株式会社
免责声明:上面列出的公司没有按照任何特定顺序排列。
- 获取光掩模市场顶级关键参与者的概述
光掩模市场新闻及最新发展
光掩模市场通过收集一手和二手研究后的定性和定量数据进行评估,其中包括重要的公司出版物、协会数据和数据库。以下是光掩模市场的发展和策略列表:
- 2024 年 2 月,凸版印刷株式会社宣布已与 IBM 达成一项联合研发协议,涉及 2 纳米 (nm) 逻辑半导体节点,采用极紫外 (EUV) 光刻技术。该协议还包括下一代半导体的高 NA EUV 光掩模开发能力。(来源:凸版印刷株式会社,新闻稿,2023 年)
- 2023 年 12 月,大日本印刷株式会社成功开发出一种光掩模制造工艺,该工艺可适应 3 纳米(10-9 米)光刻工艺,该工艺支持半导体制造的尖端工艺极紫外 (EUV) 光刻技术。(来源:大日本印刷株式会社,新闻稿,2023 年)
光掩模市场报告覆盖范围和交付成果
“光掩模市场规模和预测(2021-2031)”报告对以下领域进行了详细的市场分析:
- 范围内所有主要细分市场的全球、区域和国家层面的市场规模和预测
- 市场动态,如驱动因素、限制因素和关键机遇
- 未来的主要趋势
- 详细的 PEST/波特五力分析和 SWOT 分析
- 全球和区域市场分析涵盖关键市场趋势、主要参与者、法规和最新市场发展
- 行业格局和竞争分析,涵盖市场集中度、热点图分析、知名参与者和最新发展
- 详细的公司简介
- 历史分析(2 年)、基准年、预测(7 年)及复合年增长率
- PEST和SWOT分析
- 市场规模、价值/数量 - 全球、区域、国家
- 行业和竞争格局
- Excel 数据集
近期报告
客户评价
购买理由
- 明智的决策
- 了解市场动态
- 竞争分析
- 客户洞察
- 市场预测
- 风险规避
- 战略规划
- 投资论证
- 识别新兴市场
- 优化营销策略
- 提升运营效率
- 顺应监管趋势


获取免费样品 - 光掩模市场